NTTアドバンステクノロジ（以下、NTT-AT）では、企業・大学・独立行政法人等において特殊な試料・加工品を必要としている技術者・研究者に対し、半導体先端プロセス技術を駆使した加工試作サービスを提供しているのをご存知だろうか。

本サービスを利用すれば、デバイスのアイデアやイメージはあるがその実現手段に困る研究者が、アイデアを具体化する手段も含めて相談することができる。また、新たにデバイス開発を考える企業は、開発に必要な設備投資、技術投資をすることなく検討を行うことができる。

以下に、代表的な技術と試作サービスを紹介する。

電子ビーム露光技術

NTT-ATは、最小線幅50nmレベルまでの露光技術を有しており、この技術を用いてバイオ研究で多用される微細櫛電極チップ（写真１）などを提供している。またユーザー提供の基板への対応も可能である。

薄膜構造体形成技術

写真２、写真３は、ミクロンオーダーの厚さの薄膜構造体例である。自立した薄膜構造体は中間赤外フィルタに応用され（写真２）、SiN膜で形成した微少な箱構造は細胞トラップとしてバイオ研究に使用されている（写真3）。

半導体プロセス技術

NTT-ATが提供するパターニング・エッチング・成膜などの半導体プロセス技術は、Si基板だけでなくInP、GaAsといった化合物半導体基板を取り扱えることが特徴である。近年注目されているGaN系を取り扱えることも大きな特徴の一つである（写真４）。

デバイス試作

これまでに紹介したプロセス技術をトータルに活用しデバイス開発試作サービスを提供している。試作サービスの流れは以下のとおりである。

顧客から試作の相談があった場合、入念な事前打ち合わせをもとに実施内容を決め、実施に際しては途中経過も含めて可能な範囲でデータを提供する。またプロセス条件の詳細は、NTT-ATの持つノウハウを活用しながら顧客と協議して決定する。これにより、顧客は具体的な内容を把握しながら試作を進めることができる。なお、試作に必要なパターンデータは、顧客からの提供に限らず、NTT-ATにて作成することも可能である。

近年、NTT-ATが提供するデバイス試作の中でも、特に太陽電池セル試作やGaN系LEDデバイス試作に注目が集まっている。